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發(fā)布時(shí)間:2018/6/30

技術(shù)領(lǐng)域：
     本實(shí)用新型涉及一種離心霧化盤，并且更特別地涉及一種應(yīng)用于中低溫金屬合金離心霧化設(shè)備中的離心霧化盤。本實(shí)用新型還涉及一種包括該離心霧化盤的離心霧化設(shè)備。
背景技術(shù)：
     在眾多金屬粉末制備工藝中，離心霧化以其獨(dú)特的粒徑尺寸，形貌可控性和較高生產(chǎn)效率，已成為目前制備金屬或合金粉末的一種重要方法�，F(xiàn)有技術(shù)中，國內(nèi)外的離心霧化通常包括霧化室、熔液坩堝、輸液桿、出液嘴、霧化盤等，該熔液坩堝安裝在霧化室頂部暴露在大氣中，底部通過輸液桿與出液嘴聯(lián)通，霧化盤在出液嘴正下方一定距離處，出液嘴與霧化盤的中心軸線重合。當(dāng)金屬熔液從出液嘴流下到霧化盤上，霧化盤高速旋轉(zhuǎn)，將金屬熔液從邊緣甩出，從而形成金屬粉末，霧化過程在霧化室中進(jìn)行，用惰性氣體保護(hù)進(jìn)行。在現(xiàn)有技術(shù)中，首先由于熔液在霧化盤表面加速距離較短(盤面半徑)，該過程會(huì)出現(xiàn)不同層面的滑動(dòng)現(xiàn)象，從而有可能使熔液在飛出霧化盤邊緣時(shí)速度沒有達(dá)到值，降低霧化效果;其次出液嘴與霧化盤中心軸線需重合否則金屬熔液不能均勻的分布于霧化盤面，對制粉效果造成很大影響;再次由于坩堝內(nèi)熔液暴露在大氣環(huán)境中從而造成金屬熔液與大氣接觸表面氧化，造成原料使用率降低，增加生產(chǎn)成本。

     實(shí)用新型內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種離心霧化盤。根據(jù)本實(shí)用新型的離心霧化盤包括:可旋轉(zhuǎn)霧化盤柄，可旋轉(zhuǎn)霧化盤柄是空心的，具有外部輪廓和喇叭形的內(nèi)壁，喇叭形的內(nèi)壁進(jìn)一步包括:形成在可旋轉(zhuǎn)霧化盤柄上部的大口徑端，大口徑端向上延伸從而在可旋轉(zhuǎn)霧化盤柄頂表面上形成喇叭口狀盤面;形成在可旋轉(zhuǎn)霧化盤柄下部的小口徑端，小口徑端向下延伸形成位于可旋轉(zhuǎn)霧化盤柄底部的熔液進(jìn)口 ;以及形成在大口徑端和小口徑端之間的錐形內(nèi)表面。其中，大口徑端與錐形內(nèi)表面之間的連接為圓滑過渡，并且其中大口徑端與熔液進(jìn)口同心。本實(shí)用新型還提供了一種離心霧化設(shè)備。

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