離心霧化盤(pán)和離心霧化設(shè)備的制作技術(shù)介紹
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種離心霧化盤(pán)，并且更特別地涉及一種應(yīng)用于中低溫金屬合金離心霧化設(shè)備中的離心霧化盤(pán)。本實(shí)用新型還涉及一種包括該離心霧化盤(pán)的離心霧化設(shè)備。
背景技術(shù)：
在眾多金屬粉末制備工藝中，離心霧化以其獨(dú)特的粒徑尺寸，形貌可控性和較高生產(chǎn)效率，已成為目前制備金屬或合金粉末的一種重要方法�，F(xiàn)有技術(shù)中，國(guó)內(nèi)外的離心霧化通常包括霧化室、熔液坩堝、輸液桿、出液嘴、霧化盤(pán)等，該熔液坩堝安裝在霧化室頂部暴露在大氣中，底部通過(guò)輸液桿與出液嘴聯(lián)通，霧化盤(pán)在出液嘴正下方一定距離處，出液嘴與霧化盤(pán)的中心軸線重合。當(dāng)金屬熔液從出液嘴流下到霧化盤(pán)上，霧化盤(pán)高速旋轉(zhuǎn)，將金屬熔液從邊緣甩出，從而形成金屬粉末，霧化過(guò)程在霧化室中進(jìn)行，用惰性氣體保護(hù)進(jìn)行。
離心霧化盤(pán)在現(xiàn)有技術(shù)中，首先由于熔液在霧化盤(pán)表面加速距離較短(盤(pán)面半徑)，該過(guò)程會(huì)出現(xiàn)不同層面的滑動(dòng)現(xiàn)象，從而有可能使熔液在飛出霧化盤(pán)邊緣時(shí)速度沒(méi)有達(dá)到值，降低霧化效果;其次出液嘴與霧化盤(pán)中心軸線需重合否則金屬熔液不能均勻的分布于霧化盤(pán)面，對(duì)制粉效果造成很大影響;再次由于坩堝內(nèi)熔液暴露在大氣環(huán)境中從而造成金屬熔液與大氣接觸表面氧化，造成原料使用率降低，增加生產(chǎn)成本。
實(shí)用新型內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種離心霧化盤(pán)。根據(jù)本實(shí)用新型的離心霧化盤(pán)包括:可旋轉(zhuǎn)霧化盤(pán)柄，可旋轉(zhuǎn)霧化盤(pán)柄是空心的，具有外部輪廓和喇叭形的內(nèi)壁，喇叭形的內(nèi)壁進(jìn)一步包括:形成在可旋轉(zhuǎn)霧化盤(pán)柄上部的大口徑端，大口徑端向上延伸從而在可旋轉(zhuǎn)霧化盤(pán)柄頂表面上形成喇叭口狀盤(pán)面;形成在可旋轉(zhuǎn)霧化盤(pán)柄下部的小口徑端，小口徑端向下延伸形成位于可旋轉(zhuǎn)霧化盤(pán)柄底部的熔液進(jìn)口 ;以及形成在大口徑端和小口徑端之間的錐形內(nèi)表面。其中，大口徑端與錐形內(nèi)表面之間的連接為圓滑過(guò)渡，并且其中大口徑端與熔液進(jìn)口同心。本實(shí)用新型還提供了一種離心霧化設(shè)備。
